مقاله کنترل توزیع شدت میدان در مغزی فیبر کریستال فوتونی مغزی تهی پلاسمونیکی با استفاده از نانو لایه ی نقره با word دارای 5 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله کنترل توزیع شدت میدان در مغزی فیبر کریستال فوتونی مغزی تهی پلاسمونیکی با استفاده از نانو لایه ی نقره با word کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله کنترل توزیع شدت میدان در مغزی فیبر کریستال فوتونی مغزی تهی پلاسمونیکی با استفاده از نانو لایه ی نقره با word،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله کنترل توزیع شدت میدان در مغزی فیبر کریستال فوتونی مغزی تهی پلاسمونیکی با استفاده از نانو لایه ی نقره با word :
سال انتشار: 1391
محل انتشار: همایش سالانه روشهای اجزای محدود در فیزیک کاربردی
تعداد صفحات: 5
چکیده:
در این کار با قرار دادن یک لایه ی نانومتری فلز نقره در دیواره ی مغزی یک فیبر کریستال فوتونی مغزی تهی، توانستیم توزیعشدت میدان را در مغزی فیبر کریستال فوتونی کنترل کنیم. نتایج که با استفاده از روش عددی عناصر محدود شبیه سازی شده اند،نشان می دهند که در طول موج 401 نانومتر، برای لایه های 20 تا 50 نانومتری، با فعال شدن تدریجی پلاسمون های سطحی،شدت میدان در مرکز مغزی ضعیف می شود . نتایج شبیه سازی می توانند در انبرک های نوری مورد توجه قرار گیرند.
دانلود این فایل
- ۹۶/۰۱/۱۸